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機器(qi)采(cai)用簡(jian)易(yi)的(de)行星研磨(mo)拋光原理，三個上盤(pan)分別(bie)能獨立驅動， 可同時(shi)安裝不同的(de)拋光耗材高速旋轉，能實(shi)現更好的(de)拋光效果；

下(xia)盤有四個(ge)(ge)工位，每(mei)個(ge)(ge)工位3個(ge)(ge)下(xia)載盤能公轉和自轉，能有效 的保(bao)證(zheng)產品周邊掃光(guang)效果(guo)一致性；

機臺前側設(she)有專用取放(fang)片工位，無機械動作(zuo)(zuo)，操作(zuo)(zuo)更(geng)安全(quan)，效率更(geng)高；

采(cai)用全新的真空(kong)(kong)吸(xi)附結(jie)構和(he)真空(kong)(kong)控制系統(tong)，能更自動化(hua)(hua)，精確 化(hua)(hua)的控制每個工位的真空(kong)(kong)；

機(ji)器采用(yong)自動排水結構，并安裝(zhuang)自動洗機(ji)及真空管道清洗功能， 提(ti)高(gao)了機(ji)臺的(de)可維(wei)護性；

上盤(pan)升降(jiang)采用氣缸加線性滑(hua)軌抬升形式(shi)，實現加壓的平(ping)穩可靠；

上拋光盤上面使用毛刷等軟拋光材料，減(jian)少機器(qi)的(de)振(zhen)動(dong)；

電機(ji)均采用變頻(pin)電機(ji)且使用變頻(pin)調(diao)速(su)(su)器控制(zhi)，能在有效(xiao)設置范 圍內以任意速(su)(su)度(du)工作，實現(xian)平穩的停止、加(jia)速(su)(su)、減速(su)(su)及換向運轉；

上盤下降過程(cheng)中(zhong)，設置了快(kuai)降和緩降，緩降行程(cheng)在(zai)氣缸行程(cheng)范 圍(wei)內可(ke)調，緩降速度也可(ke)根據工件抗沖擊程(cheng)度自(zi)由調整。